Definikasyon sifas polishing de pati semiconductor pwosesis se yon pa rezonab ki dirèkteman afekte kalite Et prestans de pati yo. Lè l' ap fè sifas polishing, atansyon ta dwe peye pou aspè sa yo: 1. Polishing tan ak pwofondè kontwòl fon: Excessive polishing pouvwa domaje prestans pati a, se konsa li nesesè pou strictement kontwòl tan polishing la ak profond pou asire ke diplom polishing la se moderate, evite kondisyon an de doulè sifas san damaje èstrikti entèn de pati a. Chwazi ak kalite polishing solisyon: chwazi a ak kalite de solisyon polishing dirèkteman efè polishing yo. Li nesesè pou chwazi yon solisyon polishing ki suitable pou karakteristik de semiconductor materyèl, epi strictement kontwole fòmil Et bale de solisyon polishing pou evite enpòt doulè de kontaminasyon oswa tonbe sifas pati yo. 3. Tanperati ak pwesyon kontwole: li nesesè pou kenbe yon konstant tanperati ak pwesyon pandan pwosè polishing pou asire stabilité de kalite polishing. Ejèsif ou insufficient tanperati ka afekte polishing efè, pandan ke premye bay/fè presyon ka lakòz misure ou ki pa resevwa sou sifas pati yo. 4. Elektrostatik pwoteksyon: Semiconductor materyèl sont sensitiv pou elektris estatik, se konsa li nesesè pou pwoteje pati yo nan elektris estatik pandan pwosesis polishing la pou nou prevante domèn ki te koze pa elektris estatik. Sa enplike w ap itilize anti-estatik ekipman ak ainaj, osi byen menm ki rete konvenab ponyè ak tanperati nan anviwònman travay a. 5. Lansè ak Inspèksyon: Apre polishing, pati yo bezwen pou être entièrement Et enspèkte pou asire ke pa gen okenn rezidal polishing Et contaminants sou sifas pati yo. Agent netwayaj ak metod ta dwe itilize pandan netwayaj pou evite dezyèm kontaminasyon sekondè de pati yo. An menm tan an, li nesesè pou konsantre sifas pati yo ki itilize ainaj tankou microscopes pou asire ke pa gen okenn defects tankou deplase ou pits.