1. Hreinsun: Þa ð þarf að meðhöndla hálfleiðandi hluta í stofnfríu vinnustofni sem krefst mjög mikils hreinleikar. Þa ð verður að stjórna nákvæmlega fjölda duftsagna í verkstæðunni innan ákveðna marka til að koma í veg fyrir að duftið smiti og skemmi hálfleiðsluþátta. Mismunuð hreinleikastig á við um mismunandi framleiðsluferli, svo sem rannsóknarstofu, rannsóknarstofu og þróunarstofu og mjög hreint framleiðslusvæði. Hiti og loftvægi: Hvítverka hluta meðhöndlunar hefur einnig nákvæmar kröfur um hita og loftvægi umhverfisins. Venjulega skal stjórna hita innan ákveðna marka og forðast a ð raka sé of hár eða of lágur. Óhófleg raka getur valdið yfirborðsmengun á transistorum, sem hefur áhrif á virkni; Hins vegar getur lítil raka valdið stöðugum rafmagni á yfirborði chipsins, sem leiðir til skemmda á hring. Því er mikilvægt a ð tryggja viðeigandi hita- og rakumhverfi til að tryggja gæði og virkni hálfleiðsluþátta. Þrýstings- og gashreinsun: Við meðhöndlun hálfleiðsluþáttar þarf að nota ýmsa gasa eins og köfnunarefni, súrefni, vatni o.s.frv. Þrýstingur þessara gasa þarf að stjórna nákvæmlega til að tryggja stöðugleika vélarferlins og gæði hluta. Á sama tíma er hreinleiki gassins einnig mikilvægt til að forðast aukaverkanir óhreinleika í gasinu á hálfleiðsluþátta Stöðug stjórnun: Umhverfið sem meðhöndlar hálfleiðandi efni hefur mjög streng kröfur fyrir stöðugt rafmagn. Stöðug rafmagn getur valdið skemmdum á CMOS samsetningu og þarf því að taka árangursríkar rafstöðuvarnaraðgerðir í vinnustofunni, svo sem notkun lyfja sem ekki eru stöðug og reglulega hreinsunarbúnaða Aðrir breytur: Að auki ofangreinda kröfur þarf umhverfið sem meðhöndlar hálfleiðanda hluta einnig að stjórna öðrum breytum, svo sem ljósi, hreinum herbergi gegnum skerðingu vindhraða o.s.frv., til að tryggja sléttan framgang meðhöndlunarferlisins og stöðuga gæði hluta.